第417章 验证 领先 突发

楚千澜凝视着屏幕上稳定跳动的参数,指尖在观察窗边缘轻轻摩挲:“40纳米只是起点,以后还要继续整合。按照理论,光源波长应该在10至14纳米之间。

不过,现在的波长已经足够我们使用,整合波长的事情可以暂时放缓。”

王世杰眼中闪过一丝炽热:“楚总,您是说要冲击极紫外光的核心波长?我们已经抽掉了部分研发人员专门攻克这个方向。只是想要获得稳定的光源,还需要不短的时间!”

沈院士在一旁附和:“有了自主光源技术,深蓝半导体的光刻机研发才算真正摆脱对外依赖。

龙科院可以协调国内光学厂商,批量生产这套光源设备,不仅能满足自身需求,还能向其他科研机构供货,推动整个行业的技术升级。”

楚千澜指尖轻叩观察窗:“批量生产的事情可以后续规划,当前首要任务是确认设备生产效果以及保障45纳米光刻产线的研发进度。”

说到这里,他转头看向王世杰,“王总,现在良率如何?”

王世杰指尖在数据平板上快速滑动,语气带着难掩的振奋:“楚总,刚完成三轮小批量测试!使用新光源的180纳米光刻机,晶圆良率稳定在97.7%,比原有光源提升了3.5个百分点!而且连续运转两小时后,良率波动仅0.1%,稳定性远超预期。”

他将平板递到楚千澜与沈院士面前,屏幕上清晰呈现着良率曲线与参数对比图:“您看,线宽均匀度、边缘粗糙度等关键指标,都比国际同类型设备高出一截。

刚才我们还做了极限测试,即便将光刻速度提升30%,良率依旧能维持在88%以上,完全满足量产需求。”

沈院士俯身细看数据,眼中满是惊叹:“97.7%的良率,这在国产光刻机中是前所未有的突破!有了这个基础,45纳米光刻产线的研发就能少走很多弯路。”

楚千澜指尖划过平板上的良率曲线,眸色沉静却难掩锋芒:“良率达标只是第一步,接下来要重点验证光源设备的稳定性以及与其他光刻设备的适配性。”